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Enova et Congrès de métrologie conjoints

Béatrice Becherini | 4 septembre 2017 |

(c) Enova
Du 19 au 21 septembre, les deux évènements prendront place au parc des expositions de la Porte de Versailles, à Paris.

Cette année, Enova se déroule conjoitement avec le Congrès intervational de métrologie (CIM), du 19 au 21 septembre prochains au parc des expositions de la Porte de Versailles, à Paris.

Trois journées de rencontres et d’échanges sur Enova pour les acteurs de la mesure, de la vision, de l’optique, de l’internet des objets et de l’électronqiue. Six parcours applicatifs sont proposés : aéronautique-militaire, automobile-transport, médical-cosmétologie, smart cities-smart building, agroalimentaire-agricole et Industrie 4.0.

Quatre espaces technologiques sont également prévus : métrologie, prototypage rapide – impression 3D, embarqué et objects connectés et enfin services & conseils. Enova propose également des conférences organisées en partenariat avec des acteurs comme l’Association française du prototypage rapide, Cap’Tronic, Tematys…

 

Quant au CIM, il a pour objectif de donner des clés pour améliorer ses processus de mesure, d’analyse et d’essais et maîtriser ses risques, suivre les évolutions des techniques de mesure, les avancées R&D et les applicatiobs pratiques, et enfin retrouver tous les interlocuteurs du secteur sur un même lieu durant trois jours. Au programme du congrès des conférences et tables rondes, une exposition des innovations, des visites techniques et des animations pratiques.

 

www.enova-event.com

www.cim2017.com

 



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